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第129章 DUV光刻机（第1页）

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在王昊天的眼前，有一个白色的大壳子，上边打着智慧殿堂的标志，现在智慧殿堂的logo已经确认了，就是一个仿古的有菱角的殿堂！

这就是小芳制作出来的光刻机。

看见王昊天专注的眼神，小芳略微有些得意：“我已经按照你的吩咐尽可能地降低配置了。”

说到这里小芳情不自禁地瞥了一下嘴巴：“你们星球上的科技真的是低！”

“首先是激光发射器，因为是制作45纳米的光刻机，不能用可见光，也不能用紫外光，我们采用的是深紫外光，也就是所谓的DUV!”

“准确的说是ArF准分子激光，这种光的波长虽然是193纳米，但是可以等效为134纳米。”

“就算是DUV光刻机，也是可以分为两种的，一种是干分式的，另一种就是液浸式的，我们这一台选择的是浸透式的，浸透式的光刻机在理论上在制造芯片的时候经过多重曝光之后工艺可以达到惊人的7纳米！”

“但是几乎没有人才有DUV光刻机生产7纳米的芯片，因为每多增加一次曝光，那么生产芯片的难度增加，良品率也不能有效的保证，种种因素结合在一起，就导致了成本大大增加！”

根本就不划算！

商人以追逐利益为目标，这和本心背道而驰！

自然不会有人采用！

除非出发点不是为了赚取利润！

“所以根据我们的实际情况，只要制造的芯片在于10纳米以下，那么我们就必须要考虑极紫外光了，也就是所谓的EUV光刻机。”

“不过……”说到这里，小芳撇了撇嘴巴：“以我们的光刻机进展速度，距离制造EUV光刻机最起码还需要三年呢！”

听后王昊天点了点头，现在他的目标就是制造45纳米的光刻机，现在上城微电子设备公司已经可以可以量产90纳米的光刻机了。

从90纳米的光刻机提升到62纳米的光刻机难道是不大的，可以这么说，从90纳米提升精度，只要不到45纳米都是比较容易做到的，一直到45纳米这是一个技术关卡！

至于45纳米之后还有28纳米的，26纳米的，22纳米的……一直到10纳米，7纳米，5纳米等等……

目标我们这颗星球上能实现量产的也就是5纳米的罢了！

小芳继续说道：“ArF准分子激光被激光发射器发射出来之后，光束有些偏差，这个时候必须经过光束矫正器进行矫正，你们星球上一般需要3个光束矫正器才能矫正出来自己需要的，而我在你们技术上经过改良优化，现在仅仅需要两个光束矫正器就可以了。”这里小芳有些得意，好像自己进行了降维打击。

“还有，被矫正的光束能量还需要控制，这时候就需要能量控制器了，我们可以依靠能量控制器，控制光束之中的能量大小，我们想要大就要大，想要小就要小，完全在我们的掌控之中呢！”

“能量大小被我们控制了之后，我们还要控制光束的形状！这时候就需要光束成型装置了。”

小芳耐心地给王昊天解释着，还把光刻机打开，一边讲解着，一边给王昊天指出来仪器所在的具体位置：“光束成型装置里边又包括着光束形状设置以及遮光器。已经确定形状和能量大小的光束在出了形状成型装置之后，还要经过一次能量检测器检查一次！”

“紧接着光束就会以圆柱形状照射在光掩膜台上，光掩膜台上放着由芯片设计公司做好的光掩膜！”

“在光掩膜台上和曝光台之间还会有一个凸透镜！”

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