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第180章 asml又来了（第2页）

“鹿岛叔，结合你在NEC的经验，你先说说你的看法吧！”之前，鹿岛智树没怎么多说话。

在余子贤看来，鹿岛智树在NEC供职时期，何曾愁过设备的问题，所有的一切都有NEC操心，鹿岛智树他们只负责生产运维就行！

“余总，其实对于ASML的设备，我不熟悉，以前也未曾使用过。所以我想说的不多。不过我想强调一点的是，设备制造标准的统一性，具体来说就是和目前香积电已经存在的3微米光刻机的协调配合，甚至与曰本其他厂商生产的刻蚀机、离子注入机等设备配合，都要考虑在内！”

鹿岛智树给大家进一步解释……

香积电的工艺实验室（研发中心）和厂里生产线的批量生产的设备虽然属于同一机种，要将实验室的工艺导入到生产线，对生产线进行升级，想要得到最终理想的目标工艺结果，比如说1.2微米的工艺制程，就必须不断的对生产线的设备或者工艺做进一步调整，最后找到一个微妙的合适的某一点，或者无限接近这个点，最终让所有的设备和工艺处于最佳的状态，良率大幅度提高，确保在80以上……

如果这个点找不出来，就算是可以调试出1.2微米的制程来，但是良率会上不去……甚至有可能良率为零的可能！

要知道，即使是同一家生产的同一个规格型号的设备，也是存在这微小的性能和状态差异，这种差异称之为“机差”。

“机差”，是每一个半导体制造设备厂家在生产同一型号的设备时，因不可控因素的存在而导致的设备差异。

随着半导体设备精密化程度的不断提高，机差的问题也日益显着。

正是因为机差等各种因素影响，一般来说，新建设的生产线试生产时，初始良率几乎都是零。而将良率尽快提高到接近80%（或者某一目标值），并且长期维持接近80%（或者某一目标值）的成品率的技术，才是工厂批量生产的最终目标和要求！

“所以，余总，我建议我们在设备采购的合同上一定要特备要求，各设备厂家在设备安装调试期间，必须选派技术熟练的技术人员到场指导、或者监督，确保每一台设备的正确安装，乃至下一步的设备联试的顺利进行，最大程度的缩短调试周期！然后开始产生效益！哪怕是我们为此付出额外的设备安装指导的技术工人费用，都是非常值得的！”

“说的好！”听到鹿岛智树真知灼见，余子贤不仅为自己能够成功聘请鹿岛智树庆幸！以为下一步香积电的生产线升级庆幸！

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想必，有这位专家监督，香积电的生产线升级改造会少走许多弯路，顺利许多！

“鹿岛叔，你还有什么补充的吗？”

“暂时没有了！”

“那其他人还有没有补充的？”

“没有……”

“没有！”

……

“那好，我再说三点：第一，我们暂时将生产线芯片工艺制程确定为1.2微米级别！我们4英寸晶圆的对应芯片工艺制程最小就是1.2微米！”

第二，程渡，你下来之后赶快联系曹飞他们，让他们再一次接触佳能，加强公关，争取让佳能尽早回复1.2微米光刻机步进式的出售可能性……并且让他们加快其他设备厂商的谈判，争取早日供货，最好在1个月内就能供货……

如果ASML这边的PAS2300最终能够谈妥，光刻机设备的供货可就马上到位了，其他设备的供货自然也需要加快！

“第三，佟若愚，下来之后，你马上通知蔡俊杰，让实验室再一次梳理1.2微米工艺流程，并且根据我们香积电的设备以及技术实际，制定严密的工艺导入和调试方案！”

“鹿岛叔，就辛苦你配合蔡俊杰的实验室，做好各种方案的审核等技术工作！”

“好的，余总！”鹿岛智树欣然答应。

突然，鹿岛智树想到什么，又接着说道：“余总，香积电目前3微米工艺对应的净化厂房和辅助动力设施的建设标准需要提高了……按照1.2微米工艺制程的需要，我建议……”

在鹿岛智树的建议下，最后决定同时升级厂房建设标准！

扩大5000平米净化厂房以及提高辅助动力设施，建设高标准、高质量的水气电动力保障，要求纯水质量达到20兆欧以上；二氧化氮、氧气、氢气等气体管道全采用高规格不锈钢管，并配置高纯度的气体净化器；供电也采用的是双路双电源供电，更换ms级自动切换电源装置，净化间洁净度分区采用1000级和100级，就连光刻间的黄光区也升级改造到10级！

这样下来，目前1.5微米的生产线所在的净化厂房以及动力设施达到了国际通用标准水平。

陈树林的1000万美元，给了余子贤提高工艺标准高的底气。而且这1000万只能专款专用，所以，余子贤其他的想法就没了，尽快的让这1000万美元变成可以生产芯片的生产线，这才是对他最好应用！

至于剩下的尾款缺口……“雪球计划”应该来得及！

就在余子贤安排最后的事务时，余子贤听到了门外敲门的声音。

余子贤住的酒店房间属于办公套房，小会议室、会客厅一应俱全。

没过两分钟，出去开门的程渡回来了，说道：“里托斯先生来了……”

“哦，没想到他们这么快来了……”

PS：抱歉，这几章专业性内容太强，查询了大量资料，更新修复上一章节（179章）有点慢，见谅。

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